中文名称:氧化铟锡

中文同义词:氧化铟锡,NANOTEK|R,99.5%;氧化铟锡,91:9W/W,99.997%;氧化铟锡,99.99%(METALSBASIS);氧化铟锡,VACUUMDEPOSITIONGRADE,99.99%(METALSBASIS);氧化铟锡(ITO);氧化铟锡(铟锡氧化物);氧化铟锡100G;氧化铟锡溅射靶,50.8MM(2.0IN)直径X6.35MM(0.25IN)厚,99.99%(METALSBASIS)

英文名称:INDIUMTINOXIDE

英文同义词:ITO;INDIUMTINOXIDE;indiumtinoxide,3mm-12mmpieces,91:9w/w;indiumtinoxide,dispersion;indiumtinoxide,vacuumdepositiongrade;itocoatedslide;Indiumstannicoxide;Indiumtinoxide,99.5%min(metalsbasis)

CAS号:50926-11-9

分子式:In2O5Sn

分子量:428.34

氧化铟锡性质

熔点287℃

沸点82°C

密度1.2g/mLat25°C(lit.)

折射率n20/D1.5290-1.5460(lit.)

闪点57.2°F

储存条件?20°C

形态nanopowder

颜色Yellow-green

水溶解性Insolubleinwater.

特性

氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合。然而，薄膜沉积中需要作出妥协，因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率，但会降低它的透明度。

氧化铟锡主要用于制作液晶显示器、平板显示器、等离子显示器、触摸屏、电子纸等应用、有机发光二极管、以及太阳能电池、和抗静电镀膜还有EMI屏蔽的透明传导镀膜。